KLA-Tencor公司（納斯達克股票代碼：KLAC）今天針對10納米以下（sub-10nm）集成電路（IC）器件的開發和批量生產推出四款創新的量測系統：Archer™600疊對量測系統，WaferSight™PWG2圖案晶片幾何特征測量系統，SpectraShape™ 10K光學關鍵尺寸（CD）量測系統和SensArray®HighTemp 4... （來源：新品頻道）
KLA－TencorArcher600WaferSightPWG2SpectraShape 10KSensArrayHighTemp 4mm 2017-3-20 14:18
KLA-Tencor 公司（納斯達克股票代碼：KLAC）針對 10 納米及以下的掩膜技術推出了三款先進的光罩檢測系統，Teron™ 640、Teron™ SL655 和光罩決策中心 (RDC)。所有這三套系統是實現當前和下一代掩膜設計的關鍵，使得光罩廠和集成電路晶圓廠能夠更高效地辨識光刻中顯著并嚴重損害成品率的缺陷... （來源：新品頻道）
KLA－Tencor掩膜技術光罩檢測系統 2016-8-26 11:42
在美國西部半導體展覽會前，KLTencor 公司（納斯達克股票代碼：KLAC）今天為前沿集成電路制造推出了六套先進的缺陷檢測與檢查系統：3900 系列（以前A-稱為第 5 代）和 2930 系列寬波段等離子光學檢測儀、Puma™ 9980 激光掃描檢測儀、CIRCL™5 全表面檢測套件、Surfscan® SP5XP 無缺陷檢... （來源：新品頻道）
KLA－Tencor晶圓檢查系列產品 2016-7-12 16:21
KLA-Tencor 公司（納斯達克股票代碼：KLAC）宣布推出兩款新產品，可支持先進半導體封裝技術檢測：CIRCL-AP™ 和 ICOS® T830。CIRCL-AP 針對晶圓級封裝中多種工藝制程的檢測與工藝控制而設計，不僅擁有高產量，還能進行全表面晶圓缺陷檢測、檢查和測量。ICOS T830 可提供集成電路 (IC) 封裝的全... （來源：新品頻道）
KLA－Tencor半導體封裝技術檢測CIRCL－APICOS T830晶圓級封裝 2015-4-30 09:55
KLA-Tencor Corporation推出兩款先進的量測系統，可支持 16 納米及以下尺寸集成電路器件的開發和生產：Archer™ 500LCM 和 SpectraFilm™ LD10。Archer 500LCM 套刻測量系統在提升成品率的所有階段提供了準確的套刻誤差反饋，可幫助芯片制造商解決新的圖型套刻問題，例如多層光刻和隔離層掩膜... （來源：新品頻道）
KLA－Tencor CorporationArcher 500LCMSpectraFilm LD10 2015-3-5 11:16
KLA-Tencor 公司宣布推出 WaferSight™ PWG 已圖案晶圓幾何形狀測量系統、LMS IPRO6 光罩圖案位置測量系統和 K-T Analyzer® 9.0 先進數據分析系統。這三種新產品支持 KLA-Tencor 獨特的 5D™ 圖案成型控制解決方案，此方案著重于解決圖案成型工藝控制上的五個主要問題——元件結構的三維... （來源：新品頻道）
KLA－TencorLMS IPRO6光罩圖案位置測量WaferSight PWG已圖案晶圓幾何形狀測量 2014-9-1 15:31
KLA-Tencor 公司宣布推出四款新的系統—— 2920 系列、Puma™ 9850、Surfscan® SP5 和 eDR™-7110 ——為 16nm 及以下的集成電路研發與生產提供更先進的缺陷檢測與檢查能力。2920 系列寬波等離子圖案晶圓缺陷檢測系統、Puma 9850 激光掃描圖案晶圓缺陷檢測系統和 Surfscan SP5 無圖案晶圓... （來源：新品頻道）
KLA－Tencor 2920系列Puma 9850Surfscan SP5eDR－7110 2014-7-10 14:48
KLA-Tencor 公司宣布推出 Teron™ SL650，該產品是專為集成電路晶圓廠提供的一種新型光罩質量控制解決方案，支持 20nm 及更小設計節點。Teron SL650 采用 193nm光源及多種 STARlight™ 光學技術，提供必要的靈敏度和靈活性，以評估新光罩的質量，監控光罩退化，并檢測影響成品率的光罩缺陷，... （來源：新品頻道）
KLA－TencorTeron SL650光罩檢測系統 2014-5-28 13:51
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