OPC，英文全稱為Optical Proximity Correction，指的是光學鄰近矯正，同時也是一種光刻增強技術，修正圖形產生的畸變。OPC主要在半導體器件的生產過程中使用，目的是為了保證生產過程中設計的圖形的邊緣得到完整的刻蝕，基于這樣的目的，就不得不談到在現代芯片制造工藝中的重要環節——光刻。光刻是芯... （來源：技術文章頻道）
OPC技術 光刻 國微芯 EDA EsseOPC 2023-12-15 10:30
近日，國微芯EDA重磅發布多款自研數字EDA工具及軟件系統。本次發布的EDA工具覆蓋物理驗證平臺核心DRC工具-芯天成設計規則檢查工具EsseDRC、物理驗證平臺版圖集成工具EsseDBScope升級版本（新增強大的IP Merge功能）、可靠性平臺芯天成可靠性時序分析工具EsseChipRA、形式驗證平臺的芯天成連接性檢查工具... （來源：新聞頻道）
國微芯EDA工具 2023-11-13 10:12
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