據Wccftech報道,英特爾目前已準備好將其最為先進的Intel 14A工藝節點向廣泛外部客戶開放。廣發證券香港的分析顯示,英偉達(NVIDIA)和AMD計劃將該工藝應用到自己的下一代服務器CPU產品當中。而在此之前還有傳聞稱,英特爾贏得了代工蘋果公司AI服務器芯片的訂單。 為了發展晶圓代工業務,贏得更多的... (來源:新聞頻道)
High NA EUV光刻機Intel 2025-12-19 14:22
英特爾宣布該其尖端制程晶圓廠已安裝了ASML的第二代High-NA EUV光刻機TWINSCAN EXE:5200B,這也是目前全球最先進的光刻設備,將用于Intel 14A 節點制程的量產上。 早在2023年底,ASML 向英特爾交貨了首套High-NA EUV 光刻機,型號為TWINSCAN EXE:5000。英特爾將其做為試驗機,并于2024年初在美國俄勒... (來源:新聞頻道)
英特爾光刻機 2025-12-17 14:36
據日本媒體報道,為了支持日本晶圓代工大廠Rapidus實現在2027年下半年量產2nm芯片的目標,日本三大銀行將對Rapidus 提供最高2萬億日元(約合128.46億美元)規模的融資。 報道指出,三菱UFJ銀行、三井住友銀行以及瑞穗銀行等日本三大銀行已向Rapidus告知,有意對其提供最高2萬億日元規模的融資,目的... (來源:新聞頻道)
Rapidus2nm 2025-12-12 13:11
2025年11月25日,上海芯上微裝科技股份有限公司(以下簡稱“AMIES”或“芯上微裝”)宣布,公司自主研發的首臺350nm步進光刻機(AST6200 )正式完成出廠調試與驗收,啟程發往客戶現場。 芯上微裝表示,這標志著我國在高端半導體光刻設備領域再次實現關鍵突破!這不僅是一次產品... (來源:新聞頻道)
芯上微裝350nm步進光刻機 2025-11-26 13:06
據媒體報道,荷蘭光刻設備制造商阿斯麥(ASML)于本周四在美國鳳凰城正式啟用其全新建設的技術培訓學院,旨在為當地芯片產業培養能夠維護和維修其高端光刻設備的專業工程師。 該學院位于鳳凰城機場附近,車程僅數分鐘,規劃年培訓能力超過1000人,專注于為ASML復雜的光刻系統提供技術服務支持。 ... (來源:新聞頻道)
ASML 2025-11-24 13:04
11月7日,蘇大維格發布公告,宣布擬以自有或自籌資金5.1億元收購常州維普半導體設備有限公司51%的股權。交易完成后,常州維普將成為蘇大維格的控股子公司,正式納入其合并報表范圍。 常州維普是江蘇省認定的專精特新“小巨人”企業,核心業務聚焦于半導體前道量檢測領域的關鍵設備&md... (來源:新聞頻道)
蘇大維格常州維普 2025-11-7 15:11
若無 ASML 當前提供的極紫外光刻(EUV)設備,2 納米全環繞柵極(GAA)晶圓的生產幾乎無法實現。據 Fnnews 報道,這家荷蘭公司正組建一支專門團隊,協助三星在其位于美國得克薩斯州泰勒(Taylor)的新工廠安裝相關設備。三星即將啟動該工廠的運營,初期將利用上述光刻技術量產高性能人工智能芯片及其他... (來源:新聞頻道)
ASML 三星EUV 光刻設備 2025-11-6 09:22
當地時間10月28日,美國新創光刻設備廠商Substrate宣布,他們已開發出一款全新的光刻機,有能力與全球光刻機龍頭大廠——荷蘭ASML最先進的每臺售價接近4億美元的High NA EUV光刻機競爭。 據介紹,Substrate所開發的是使用X射線作為光源的光刻機,該光源利用粒子加速器產生,波長比ASM... (來源:新聞頻道)
X射線光刻機Substrate 2025-10-30 15:09
江蘇影速集成電路裝備股份有限公司成立于2014年,榮獲國家專精特新小巨人及高新技術企業稱號,累計專利超百項。公司核心業務專注于解決我國電子產業鏈中設備制造環節的技術短板,尤其在PCB和半導體光刻設備領域取得顯著成果。其FPD激光直寫曝光設備FEM系列,更是實現面板制造全流程貫通的“國之重... (來源:新聞頻道)
影速 FPD集成電路 2025-10-28 10:47
據報道,三星電子正在加大對極紫外(EUV)光刻設備的投資,計劃為其存儲部門新增五套設備,同時為其晶圓代工部門新增兩套高數值孔徑(High NA)EUV設備。隨著DRAM和高帶寬存儲器(HBM)制造商競相擴大下一代產能,此舉將使三星在預期的存儲超級周期中占據優勢。 據報道,三星計劃為其存儲業務部署五... (來源:新聞頻道)
三星High NA EUV光刻機2nm 2025-10-20 15:03