近日，比利時微電子研究中心（imec）在2025年度IEEE國際電子器件會議（IEDM 2025）上宣布，首次利用ASML最先進的極紫外光（EUV）設備，成功實現了固態納米孔的晶圓級制造。由于固態納米孔正在成為分子傳感的強大工具，但尚未商業化。這種概念驗證是實現其成本效益（大規模）生產的關鍵一步。 據介紹... （來源：新聞頻道）
imecEUV 2025-12-22 16:40
據Wccftech報道，英特爾目前已準備好將其最為先進的Intel 14A工藝節點向廣泛外部客戶開放。廣發證券香港的分析顯示，英偉達（NVIDIA）和AMD計劃將該工藝應用到自己的下一代服務器CPU產品當中。而在此之前還有傳聞稱，英特爾贏得了代工蘋果公司AI服務器芯片的訂單。 為了發展晶圓代工業務，贏得更多的... （來源：新聞頻道）
High NA EUV光刻機Intel 2025-12-19 14:22
英特爾宣布該其尖端制程晶圓廠已安裝了ASML的第二代High-NA EUV光刻機TWINSCAN EXE:5200B，這也是目前全球最先進的光刻設備，將用于Intel 14A 節點制程的量產上。 早在2023年底，ASML 向英特爾交貨了首套High-NA EUV 光刻機，型號為TWINSCAN EXE:5000。英特爾將其做為試驗機，并于2024年初在美國俄勒... （來源：新聞頻道）
英特爾光刻機 2025-12-17 14:36
據臺媒《自由時報》報道，有傳聞稱，今年7月底才退休的臺積電前技術研發暨企業策略發展資深副總經理羅唯仁可能將會加盟英特爾研發部門。 資料顯示，羅唯仁畢業于臺大物理系，隨后取得美國加州大學柏克萊分校固態物理與表面化學博士學位，早年就曾在英特爾擔任先進技術制造廠（CTM）廠長。 2004年加入... （來源：新聞頻道）
臺積電英特爾 2025-10-29 09:15
阿斯麥（ASML）近期發布2025年第三季度財報。在該季度，ASML實現凈銷售額75億歐元，毛利率為51.6%，符合公司預期，凈利潤達21億歐元。第三季度ASML新增訂單金額為54億歐元，其中36億歐元為EUV光刻機訂單。 ASML預計2025年第四季度凈銷售額在92億~98億歐元之間，毛利率介于51%~53%；預計2025年全年凈... （來源：新聞頻道）
ASML光刻機 2025-10-15 16:18
據報道，英特爾已加大對荷蘭芯片設備制造商ASML High NA（高數值孔徑）EUV光刻機的購買力度，意圖為其Intel 14A（1.4nm）工藝“傾盡全力”。 High NA EUV光刻機被稱為芯片市場上的“圣杯”，這不僅是因為其高昂的價格，還因為其光刻質量。Jerry Capital的一篇分析文章披露，英特... （來源：新聞頻道）
Intel 14A英特爾光刻機 2025-9-30 09:37
近日，在美國加利福尼亞州蒙特雷舉辦的 “2025 SPIE 光掩模技術 + EUV 光刻會議上”，比利時微電子研究中心（imec） 展示了單次打印High NA EUV 光刻的兩項突破性成就： （1）間距為 20nm 的線結構，尖端到尖端臨界尺寸 (CD) 為 13nm，適用于鑲嵌金屬化； （2）使用直接金屬蝕刻 (... （來源：新聞頻道）
imecEUV光刻機 2025-9-30 09:07
在臺積電北美技術研討會上，臺積電表示無需使用High NA（高數值孔徑）EUV光刻機來制造其A14 (1.4nm) 工藝的芯片。 臺積電在研討會上介紹了A14工藝，并表示預計將于2028年投入生產。此前，臺積電曾表示A16工藝將于2026年底問世，而且也不需要使用High NA EUV光刻設備。 據悉，臺積電業務發展高級副... （來源：新聞頻道）
臺積電A14A16光刻機 2025-4-30 15:46
美光科技股份有限公司（納斯達克股票代碼：MU）今日宣布，已率先向生態系統合作伙伴及特定客戶出貨專為下一代CPU設計的1γ（1-gamma）第六代（10納米級）DRAM節點DDR5內存樣品。得益于美光此前在1α（1-alpha）和1β（1-beta）DRAM節點的領先優勢，1γ DRAM節點的這一新里程碑將推動從云端、工業、消費應用... （來源：新聞頻道）
美光DRAM 2025-2-28 11:01
開始供應用于下一代半導體的高NA EUV光掩模樣品Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) 成功實現超2nm（nm：10-9米）一代1邏輯半導體光掩模所需的精細圖案分辨率，支持半導體制造領域的尖端工藝——極紫外光（EUV）光刻技術。 用于超2nm一代EUV光刻的光掩模圖像（照片：美國商業資訊） DN... （來源：新聞頻道）
DNP EUV光刻 2024-12-13 09:55
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