泛林集團(納斯達克股票代碼:LRCX)今天宣布推出一種用于沉積低氟填充鎢薄膜的新型原子層沉積 (ALD) 工藝,標志著其業界領先的 ALTUS® 產品系列又添新成員。通過業內首創的低氟鎢(LFW) ALD 工藝,ALTUS Max E 系列能夠幫助存儲器芯片制造商應對當前所面臨的諸多關鍵挑戰,從而推動3D NAND 及 DR... (來源:新品頻道)
泛林集團沉積低氟填充鎢薄膜新型原子層沉積工藝ALTUS存儲器 2016-8-10 11:07