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青禾晶元鍵合技術(shù)突破GeOI產(chǎn)業(yè)化瓶頸：散熱效率提升40%、鍵合面積提升至95%以上！

技術(shù)背景與優(yōu)勢 鍺擁有高折射率特性，當(dāng)光線從一種介質(zhì)進(jìn)入鍺材料時(shí)，會發(fā)生較大角度的偏折，這一特性使得鍺在操控光線方面具有強(qiáng)大的能力，能夠精準(zhǔn)地改變光線的傳播路徑，為光學(xué)器件的設(shè)計(jì)和應(yīng)用提供了豐富的可能性。 GeOI（Germanium on insulator, 絕緣體上鍺）襯底技術(shù)作為新一代半導(dǎo)體材料... （來源：技術(shù)文章頻道）

青禾晶元鍵合技術(shù) 2025-7-29 13:05